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中微公司專注于研發(fā)干法刻蝕(等離子體刻蝕)設備,用于在晶圓上加工微觀結構。干法刻蝕通過等離子釋放帶正電的離子來撞擊晶圓以去除(刻蝕...



MOCVD全稱是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition(金屬有機化學氣相沉積設備),是在基板上生長半導體薄膜的一種技術。利用...



憑借在使用了復雜化學物和氣體的高端工藝設備領域的專業知識,中微在自主研發(fā)空氣過濾產品方面具有獨特的優(yōu)勢,該產品符合嚴格的空氣質量標...




等離子體刻蝕設備


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中微半導體設備(上海)股份有限公司(證券簡稱“中微公司”,證券代碼“688012”)是一家以中國為基地、面向全球的微觀加工高端設備公司,為集成電路和泛半導體行業提供極具競爭力的高端設備和高質量的服務。
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榮譽獎項



中微公司就被列入中國軍事企業清單正式起訴美國...
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中微公司董事長尹志堯博士榮獲“東方芯港·卓越...
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中微公司二十載風華正茂 臨港基地落成共啟新篇章
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中微公司董事長尹志堯博士再次榮登福布斯中國最...
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中微半導體設備(上海)股份有限公司在2019年正式在上海證券交易所科創(chuàng)板掛牌上市,公司證券簡稱為“中微公司”,證券代碼為“688012”。


中微公司發(fā)展迅速,實力穩(wěn)固,足跡遍布世界10多個地區為各國企業提供有力幫助!



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